Osseointegration Enhanced by Electron-Beam-Deposition on the Ti-implant surface
조영진, 김성균, 곽재영, 허성주, 김선재, 한종현,
소속 상세정보
조영진 ( Cho Young-Jin ) - 서울대학교 치과대학 치과보철학교실
김성균 ( Kim Seong-Kyun ) - 서울대학교 치과대학 치과보철학교실
곽재영 ( Koak Jai-Young ) - 서울대학교 치과대학 치과보철학교실
허성주 ( Heo Seong-Joo ) - 서울대학교 치과대학 치과보철학교실
김선재 ( Kim Sun-Jae ) - 연세대학교 영동세브란스병원
한종현 ( Han Chong-Hyun ) - 연세대학교 치과대학 치과보철학교실
KMID : 0602720060100030016
Abstract
[초록없음:No abstract]
키워드
electron beam deposition;implant;dissolution rate;hydrocyapatite
원문 및 링크아웃 정보
등재저널 정보